構(gòu)成侵犯專利權(quán)的條件是:
構(gòu)成專利侵權(quán)行為的要件包括兩個(gè)方面:形式條件和實(shí)質(zhì)條件。
形式要專利侵權(quán)及其法律責(zé)任件主要有:
1、實(shí)施行為所涉及的是一項(xiàng)有效的中國(guó)專利;
2、實(shí)施行為必須是未經(jīng)專利權(quán)人許可或者授權(quán)的;
3、實(shí)施行為必須是以生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)為目的。對(duì)于行為人是否具有主觀故意并不是形式要件。但是,可以作為衡量其情節(jié)輕重的依據(jù)。
實(shí)質(zhì)條件構(gòu)成專利侵權(quán)主要有以下幾種表現(xiàn)形式:
1、行為人所涉及的技術(shù)特征與專利的技術(shù)特征全部相同,則構(gòu)成侵權(quán);
2、行為人所涉及的技術(shù)特征多于專利的技術(shù)特征,也構(gòu)成侵權(quán);
3、行為人所涉及的技術(shù)特征與專利的技術(shù)特征有相同的,有相異的,但是,相異的技術(shù)特征與專利的技術(shù)特征是等效的,仍構(gòu)成侵權(quán);否則,不構(gòu)成侵權(quán)。這里技術(shù)特征等效,是指所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員你那能夠推斷出某兩種技術(shù)特征彼此替換后,所產(chǎn)生的效果相同。
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