英偉達計劃在2024年年底前推出下一代旗艦級顯卡RTX 5090，將使用臺積電的3納米制程技術。根據外媒Hardwaretimes的報導，英偉達下一代RTX顯卡系列代號為Blackwell，將在臺積電的3納米（N3）節點制程上生產，內含晶體管數量將超過150億個，核心頻率將超過3Ghz，顯存帶寬則為512bits，流處理器將會達到1.8萬個CUDA。

拓展：RTX 5090采用什么工藝？

眾所周知，制程工藝對于芯片性能的提升至關重要。隨著工藝的不斷進步，芯片的性能和能效得到了顯著提升，而RTX 5090采用的3nm工藝，將是一個重大的突破和進步。3nm工藝相較于之前的工藝，具有更高的晶體管密度和更低的功耗。這意味著在相同的芯片面積下，能夠容納更多的晶體管，從而提供更強大的計算能力。此外，3nm工藝還能夠降低功耗，提升能效，為用戶提供更長的續航時間和更穩定的性能。

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