一臺光刻機多少錢，下面就來給大家詳細介紹：

在生產芯片的過程當中，光刻機起到至關重要的作用，光刻機的工藝直接決定了芯片的性能。隨著半導體工藝進入7nm以內，EUV光刻機是必不可少的關鍵設備，全球只有ASML公司能生產，現在NA 0.33孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元，約合10億一臺，而且下一代會更貴。

現在NA 0.33孔徑的EUV光刻機能夠量產3nm、2nm工藝，再往后就需要NA 0.55孔徑的下一代光刻機，也就是High NA EUV，制造2nm以下的工藝必需。

High NA EUV光刻機不僅是本身昂貴，使用成本也越來越高，因為功耗還會繼續漲，ASML最近證實High NA EUV光刻機會額外消耗0.5WM功耗，加上目前的1.5MW功耗，下一代光刻機的總功耗將達到2MW，也就是200萬瓦的水平。如果一天24小時運轉，那么下代光刻機每天就要消耗4.8萬度電，這個成本對芯片制造企業來說是非常高的，絕對的電老虎。

以上就是小編今天的分享了，希望可以幫助到大家。

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