中國(guó)有光刻機(jī)，位于我國(guó)上海的SMEE已研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。

　　光刻機(jī)（Mask Aligner）是制造微機(jī)電、光電、二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時(shí)模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機(jī)原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機(jī)被稱為“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花”，制造難度很大，全世界只有少數(shù)幾家公司能制造。

　　光刻機(jī)的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號(hào)稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬(wàn)美金的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來(lái)自德國(guó)），日本Nikon（intel曾經(jīng)購(gòu)買過(guò)Nikon的高端光刻機(jī)）和日本Canon三大品牌為主。

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